Установка магнетронного напыления DST3-A

DST3 обеспечивает напыление металлических, полупроводниковых и диэлектрических слоев (включая напыление реактивным методом) толщиной от 10 нм до нескольких мкм, подготовку образцов к SEM/TEM. Установка способна работать с образцами размером от нескольких миллиметров до 200 мм. В системе DST3 для нанесения покрытий используются магнетроны переменного и постоянного тока, а также устройство термического испарения (опционально), которые увеличивают эффективность процесса с использованием низких напряжений и создает равномерное напыление.
- Турбомолекулярный насос (производительностью 90 л/c), предельное давление 8х10-6 Торр.
- Форвакуумный насос (пластинчато-роторный, 4 л/с).
- Широкодиапазонный вакуумметр, атм. - 10-7 мбар.
- Вакуумная камера диаметром 300мм и высотой 200 мм (материал: Pyrex).
- Источник питания DC (1200В, 500 мА).
- Вращающийся столик подложкодержателя с изменяемыми высотой и углом наклона.
- 3 магнетрона диаметром 2", расположенные под углом или прямо, водяное охлаждение.
- 2 цифровых РРГ
DST-3 - настольная установка магнетронного напыления с тремя магнетронами диаметром 2" (50 мм). Позволяет напылять металлы, диэлектрики, полупроводники на подложки диаметром до 200 мм.